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INTRAMOLECULAR TRIPLET-SENSITIZED O-NITROPHENYLETHYL PHOTOPROTECTIVE GROUPS

机译：分子内三重态敏感的邻硝基苯甲基光保护基团

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摘要

The invention relates to novel photoactivatable protective groups having a quantum yield which can be significantly increased by means of an intramolecular sensitizer. The invention also relates to the use of said groups in the synthesis of biopolymers.

机译：本发明涉及新颖的光活化保护基，其具有可通过分子内敏化剂显着提高的量子产率。本发明还涉及所述基团在生物聚合物的合成中的用途。

著录项

公开/公告号WO2004058392A3

专利类型
公开/公告日2004-08-26

原文格式PDF
申请/专利权人 FEBIT AG;GUEIMIL RAMON;SCHEFFLER MATTHIAS;STAHL SVEN;
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申请/专利号WO2003EP14823
发明设计人 SCHEFFLER MATTHIAS;STAHL SVEN;GUEIMIL RAMON;
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申请日2003-12-23
分类号C07C205/05;B01J19/00;C07C205/25;C07C205/56;C07H19/00;C07H21/00;
国家 WO
入库时间 2022-08-21 22:55:27

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