解决方案:镁基铁氧体材料包括Li,Na,K,Pb,Rb,Cs,Ca,Sr,Ba,Y,La,Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Al,Ga, Si,Ge,P,Sb,Bi或它们的组合,其中饱和磁化强度为30到80 emu / g,介电击穿电压为1.5到5.0 kV。镁基铁氧体材料可以处理更高的图像质量和环境调节。
版权:(C)2005,JPO&NCIPI
公开/公告号JP2005162597A
专利类型
公开/公告日2005-06-23
原文格式PDF
申请/专利权人 KANTO DENKA KOGYO CO LTD;
申请/专利号JP20040264875
申请日2004-09-13
分类号C01G49/00;G03G9/107;G03G9/113;H01F1/11;H01F1/113;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 22:35:21