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Arrangement for highly precise positioning and measuring of objects placed on an object table, e.g. for use in producing microstructures in semiconductor manufacturing, has an interferometer block and measurement mirrors

机译:用于高精度定位和测量放置在物体台上的物体的装置,例如用于制造半导体制造中的微结构,具有干涉仪模块和测量镜

摘要

Arrangement for precise positioning and measuring of objects placed on an object table whereby in a positioning volume beneath the object table (1) is an interferometer block (25) that is made up of two partial blocks whereby each block contains at least an interferometer. Measurement reflectors (20-22) of the interferometer are arranged on the inner surfaces (23, 24) of the object table and the closing plate.
机译:用于精确定位和测量放置在对象台上的对象的装置,其中在对象台(1)下方的定位空间中是一个干涉仪模块(25),该模块由两个部分模块组成,每个模块至少包含一个干涉仪。干涉仪的测量反射器(20-22)布置在物镜台和封闭板的内表面(23、24)上。

著录项

  • 公开/公告号DE10341594A1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-04-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JENAER MESTECHNIK GMBH;

    申请/专利号DE2003141594

  • 发明设计人 CHOUR MATTHIAS;

    申请日2003-09-04

  • 分类号G05D3/12;G01B9/02;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 22:01:13

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