首页> 外国专利> manufacture of mikrowellenvorrichtung by applying a coating of yttrium iron garnet on the surface of the device for the suppression of secondary electron emission

manufacture of mikrowellenvorrichtung by applying a coating of yttrium iron garnet on the surface of the device for the suppression of secondary electron emission

机译:通过在器件的表面上施加钇铁石榴石涂层来抑制二次电子发射来制造微晶硅

摘要

A surface treatment and method for applying the surface treatment to electrical components are provided that include a coating of yttrium-iron-garnet (YIG), which is applied to the inner surface of the component by sputtering.
机译:提供了一种表面处理和将表面处理施加到电气部件的方法,该方法包括通过钇铁石榴石(YIG)涂层形成的涂层,该涂层通过溅射施加到部件的内表面。

著录项

  • 公开/公告号DE60022681D1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-10-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 COM DEV LTD. CAMBRIDGE;

    申请/专利号DE20006022681T

  • 申请日2000-11-29

  • 分类号H01J3/00;H01J23/12;H01J9/24;C23C14/34;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 21:59:34

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号