要解决的问题:提供一种掩模坯料容纳盒,其既具有用于检查壳体内部的可见性,又具有适于在其上形成有抗蚀剂膜的掩模坯料的遮光性,并且可以保持稳定的抗蚀剂性能以形成期望的掩模坯料容纳盒。面具图案。
解决方案:掩模坯料容纳盒用于容纳具有至少一层薄膜的掩模坯料,该薄膜用于在基板上形成转印图案,其中,至少一部分壳体具有透光性,其含量使得所容纳的材料从壳体外部是可见的,并且基本上阻挡了550 nm或更短波长的光。外壳基本上透射600nm或更长的波长的光。
版权:(C)2007,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2007086363A
专利类型
公开/公告日2007-04-05
原文格式PDF
申请/专利权人 HOYA CORP;
申请/专利号JP20050274544
申请日2005-09-21
分类号G03F1/14;H01L21/027;B65D6/10;B65D81/30;B65D85/86;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:10:35