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机译:大规模制备高度均匀性低于25纳米的纳米结构的方法
公开/公告号US7323387B2
专利类型
公开/公告日2008-01-29
原文格式PDF
申请/专利权人 GE YI;
申请/专利号US20040987743
发明设计人 GE YI;
申请日2004-11-12
分类号H01L21/336;
国家 US
入库时间 2022-08-21 20:09:37
机译: 大规模制备高度均匀性低于25纳米的纳米结构的方法
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