解决方案:真空加热设备1包括真空箱10;排气装置20使真空罐10的内部10a向真空气氛排气。加热炉31设置在真空罐10的内部10a中,并存储被处理物W。加热装置33,其对储存在加热炉31内的被处理物W进行加热。
COPYRIGHT:(C)2010,JPO&INPIT;以及向惰性气体G吹向加热炉31的送气装置50。
公开/公告号JP2010025406A
专利类型
公开/公告日2010-02-04
原文格式PDF
申请/专利权人 SINFONIA TECHNOLOGY CO LTD;
申请/专利号JP20080185951
申请日2008-07-17
分类号F27D7/02;F27D7/06;F27D11/06;F27D9;F27D17;F27D19;F27B14/20;F27B14/08;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:01:38