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Volatile copper(1) complexes and processes for deposition of copper films by atomic layer deposition

机译:挥发性铜(1)配合物和通过原子层沉积法沉积铜膜的方法

摘要

Provided are novel 1,3-diimine copper complexes, and processes for using 1,3-diimine copper complexes in the deposition of copper on substrates, or in or on porous solids, by atomic layer deposition.
机译:提供了新颖的1,3-二亚胺铜配合物,以及通过原子层沉积在基材上或在多孔固体中或在其上的铜沉积中使用1,3-二亚胺铜配合物的方法。

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