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机译:二氧化硅插层的水滑石,并用作聚合物组合物中的电荷
公开/公告号EP1697259B1
专利类型
公开/公告日2010-10-27
原文格式PDF
申请/专利权人 RHODIA CHIMIE;
申请/专利号EP20040817581
发明设计人 STELANDRE LAURENCE;FOULON MICHEL;
申请日2004-12-22
分类号C01F7/00;C01B13/36;C01B33/193;C08K3/22;
国家 EP
入库时间 2022-08-21 18:39:21
机译: 二氧化硅插层的水滑石,并用作聚合物组合物中的电荷