首页> 外国专利> TARGET FOR ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION, ELECTRON BEAM-EXCITED ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE, AND PRODUCTION METHOD FOR TARGET FOR ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION

TARGET FOR ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION, ELECTRON BEAM-EXCITED ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE, AND PRODUCTION METHOD FOR TARGET FOR ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION

机译:紫外光产生的靶标,电子束激发的紫外光源以及产生紫外光的靶标的生产方法

摘要

A target for ultraviolet light generation comprises a substrate adapted to transmit ultraviolet light therethrough and a light-emitting layer, disposed on the substrate, for generating ultraviolet light in response to an electron beam. The light-emitting layer includes a powdery or granular oxide crystal containing Lu and Si doped with an activator (e.g., Pr:LPS and Pr:LSO crystals).
机译:用于产生紫外线的靶包括适于透射紫外线穿过的基底和设置在该基底上的发光层,该发光层用于响应于电子束产生紫外线。发光层包括含有掺杂有活化剂的Lu和Si的粉末或颗粒状的氧化物晶体(例如,Pr:LPS和Pr:LSO晶体)。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号