机译:具有多层反射膜的基板的制造方法,反射掩模坯料的制造方法,具有多层反射膜的基板,反射掩模坯料,反射掩模以及半导体装置的制造方法
公开/公告号US9507254B2
专利类型
公开/公告日2016-11-29
原文格式PDF
申请/专利权人 HOYA CORPORATION;
申请/专利号US201314423494
申请日2013-09-24
分类号G03F1/22;G03F1/50;G03F1/76;G03F1/24;G03F1/68;G03F1/52;G03F7/20;H01L21/027;
国家 US
入库时间 2022-08-21 13:41:19