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SEMICONDUCTOR MICRO-HOLLOW CATHODE DISCHARGE DEVICE FOR PLASMA JET GENERATION

机译:用于产生等离子体射流的半导体微空心阴极放电装置

摘要

A micro-hollow cathode discharge device (100). The device (100) includes a first electrode layer (102) comprising a first electrode. A hole (110) is disposed in the first electrode layer (102). The device (100) also includes a dielectric layer (104) having a first surface that is disposed on the first electrode layer (102). The hole (110) continues from the first electrode layer (102) through the dielectric layer (104). The device also includes a semi-conducting layer (106) disposed on a second surface of the dielectric layer (104) opposite the first surface. The semi-conducting layer (106) is a semiconductor material that spans across the hole (110) such that the hole (110) terminates at the semi-conducting layer (106). The device also includes a second electrode layer (108) disposed on the semi-conducting layer (106) opposite the dielectric layer (104).
机译:微空心阴极放电装置(100)。装置(100)包括具有第一电极的第一电极层(102)。孔(110)设置在第一电极层(102)中。装置(100)还包括具有设置在第一电极层(102)上的第一表面的介电层(104)。孔(110)从第一电极层(102)延伸穿过介电层(104)。该装置还包括半导体层(106),该半导体层设置在电介质层(104)的与第一表面相对的第二表面上。半导电层(106)是跨过孔(110)的半导体材料,使得孔(110)在半导电层(106)处终止。该装置还包括第二电极层(108),其布置在与介电层(104)相对的半导电层(106)上。

著录项

  • 公开/公告号EP3244706A1

    专利类型

  • 公开/公告日2017-11-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 THE BOEING COMPANY;

    申请/专利号EP20170156101

  • 发明设计人 NIKIC DEJAN;

    申请日2017-02-14

  • 分类号H05H1/24;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 13:15:39

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