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机译:活性光敏或辐射敏感性树脂组合物,活性光敏或辐射敏感性薄膜,具有活性光敏或辐射敏感性薄膜的掩模坯料,图案形成方法,电子器件的制造方法,电子器件和新型化合物
公开/公告号US10324374B2
专利类型
公开/公告日2019-06-18
原文格式PDF
申请/专利权人 FUJIFILM CORPORATION;
申请/专利号US201615080714
申请日2016-03-25
分类号G03F7/038;C07C233/36;C07C271/16;C07C271/24;C07C271/34;C07C275/10;C07C275/24;C07C275/26;C07C323/60;C07D211/26;C07D233/32;C07D233/36;C07D235/26;C07D239/10;C07D251/30;C07D403/12;C07D487/04;
国家 US
入库时间 2022-08-21 12:16:25