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DESIGN FOR MANUFACTURABILITY (DFM) CELLS IN EXTREME ULTRA VIOLET (EUV) TECHNOLOGY

机译:极紫外(EUV)技术中的可制造性(DFM)细胞设计

摘要

Aspects of the disclosure are directed to a circuit. In accordance with one aspect, the circuit includes a first layer, wherein the first layer includes two-dimensional (2D) shapes; a second layer coupled adjacent to the first layer through at least one via hole, wherein the second layer includes only one-dimensional (1D) shapes; a shared drain terminal; and a source terminal termination.
机译:本公开的各方面针对一种电路。根据一个方面,所述电路包括第一层,其中所述第一层包括二维(2D)形状;并且第二层通过至少一个通孔与第一层相邻,其中第二层仅包括一维(1D)形状;共用的漏极端子;和源终端终端。

著录项

  • 公开/公告号SG11201912806VA

    专利类型

  • 公开/公告日2020-02-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 QUALCOMM INCORPORATED;

    申请/专利号SG20191112806V

  • 发明设计人 SOBTI HARMEET;MANESH MEHRDAD;CHANG LI-FU;

    申请日2018-07-31

  • 分类号H01L27/02;H01L27/092;H01L27/118;

  • 国家 SG

  • 入库时间 2022-08-21 11:15:52

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