首页> 外国专利> Electroless preparation of silicon nanowires and plates in solution

Electroless preparation of silicon nanowires and plates in solution

机译:化学溶液中硅纳米线和板的化学制备

摘要

Compositions and methods for preparing silicon nanowires or silicon nanoplates are presented, wherein the composition serves as potassium hydroxide (KOH), one or more catalysts, sodium metal siliconate (Na 2 SiO 2 ), and a first chelating agent Ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA).
机译:提出了用于制备硅纳米线或硅纳米板的组合物和方法,其中该组合物用作氢氧化钾(KOH),一种或多种催化剂,金属硅酸钠(Na 2 SiO 2 ),和第一螯合剂乙二胺四乙酸(EDTA)。

著录项

  • 公开/公告号KR20200094192A

    专利类型

  • 公开/公告日2020-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利号KR20207018889

  • 发明设计人 토파즈 지오라;

    申请日2017-11-30

  • 分类号C30B7/14;B82B3;C30B29/06;C30B29/60;C30B29/64;H01L29/06;B82Y40;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:06:19

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号