制备用于太阳能电池的抗反射或钝化层的方法和装置

摘要

本发明涉及一种制备用于太阳能电池的抗反射和/或钝化涂层的方法，包括步骤：在沉积室中提供硅晶片；将所述硅晶片预加热至大于400℃的温度；通过溅射工艺沉积含氢抗反射或钝化涂层。本发明还涉及一种制造太阳能电池、优选在Si晶片上制备抗反射和/或钝化涂层的涂覆装置，所述涂覆装置优选用于进行本发明的方法，所述涂覆装置包括第一真空室(1)、第二真空室(2)和用于将衬底(5)依次传送通过所述第一和第二真空室的输送装置(4)，所述第一真空室包括至少一个能够被加热以使加热丝温度为1800-3000℃的红外线辐射加热器(16)，并且所述第二真空室包括用于蒸发靶材的溅射装置(12)以及用于引入含氢反应性气体的气体进口。