首页> 中国专利> 抗低硫的钴钼耐硫变换催化剂的制备方法

抗低硫的钴钼耐硫变换催化剂的制备方法

摘要

一种抗低硫钴钼耐硫变换催化剂的制备方法,它是传统浸渍法制备钴钼耐硫一氧化碳变换催化剂方法的改进。该法是将活性γ-Al2O3载体用可溶性钴盐和钼酸铵、碳酸钾组成的氨水溶液共浸、浸渍液浓度为可溶性钴盐如醋酸钴4%、钼酸铵10%、碳酸钾12.5%、氨1%,在浸渍液中加入一种具有氧化还原性的含氧酸钾盐,加入量为浸渍液重量的1%-10%,以改变钼硫化物的结构、浸渍后干燥后的钴钼耐硫变换催化剂具有抗低硫的性能。

著录项

  • 公开/公告号CN1089634C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2002-08-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖北省化学研究所;

    申请/专利号CN99116562.4

  • 发明设计人 陈劲松;

    申请日1999-07-23

  • 分类号B01J23/882;B01J37/02;

  • 代理机构42102 湖北武汉永嘉专利代理有限公司;

  • 代理人张安国;彭友华

  • 地址 430074 湖北省武汉市武昌关山路30号

  • 入库时间 2022-08-23 08:55:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-16

    专利权有效期届满 IPC(主分类):B01J 23/882 授权公告日:20020828 申请日:19990723

    专利权的终止

  • 2015-12-02

    专利权质押合同登记的变更 IPC(主分类):B01J23/882 登记号:2010990000869 变更日:20151106 变更前: 变更后: 申请日:19990723

    专利权质押合同登记的生效、变更及注销

  • 2015-12-02

    专利权质押合同登记的注销 IPC(主分类):B01J23/882 授权公告日:20020828 登记号:2010990000869 出质人:华烁科技股份有限公司 质权人:汉口银行股份有限公司光谷分行 解除日:20151106 申请日:19990723

    专利权质押合同登记的生效、变更及注销

  • 2015-12-02

    专利权质押合同登记的变更 IPC(主分类):B01J 23/882 登记号:2010990000869 变更日:20151106 变更前: 变更后: 申请日:19990723

    专利权质押合同登记的生效、变更及注销

  • 2015-12-02

    专利权质押合同登记的注销 IPC(主分类):B01J 23/882 授权公告日:20020828 登记号:2010990000869 出质人:华烁科技股份有限公司 质权人:汉口银行股份有限公司光谷分行 解除日:20151106 申请日:19990723

    专利权质押合同登记的生效、变更及注销

  • 2010-11-03

    专利权质押合同登记的生效 IPC(主分类):B01J23/882 登记号:2010990000869 登记生效日:20100907 出质人:华烁科技股份有限公司 质权人:汉口银行股份有限公司光谷支行 发明名称:抗低硫的钴钼耐硫变换催化剂的制备方法 授权公告日:20020828 申请日:19990723

    专利权质押合同登记的生效、变更及注销

  • 2010-11-03

    专利权质押合同登记的生效 IPC(主分类):B01J 23/882 登记号:2010990000869 登记生效日:20100907 出质人:华烁科技股份有限公司 质权人:汉口银行股份有限公司光谷支行 发明名称:抗低硫的钴钼耐硫变换催化剂的制备方法 授权公告日:20020828 申请日:19990723

    专利权质押合同登记的生效、变更及注销

  • 2009-07-15

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:19990723

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2009-07-15

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:19990723

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2002-08-28

    授权

    授权

  • 2002-08-28

    授权

    授权

  • 2000-11-08

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 2000-11-08

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 2000-01-26

    公开

    公开

  • 2000-01-26

    公开

    公开

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