法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-12-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G06T 5/00 授权公告日:20120111 终止日期:20141016 申请日:20091016
专利权的终止
2012-01-11
授权
授权
2010-06-23
实质审查的生效 IPC(主分类):G06T 5/00 申请日:20091016
实质审查的生效
2010-05-05
公开
公开
机译: 正电子发射层析成像数据的衰减校正方法及正电子发射层析成像与磁共振层析成像系统的组合
机译: 正电子发射层析成像数据与正电子发射层析成像与磁共振层析成像系统相结合的衰减校正方法
机译: 用于实施患者的成像检查的方法,包括:从检测到的正电子发射断层摄影数据中评估正电子发射断层摄影全景图像,以及显示正电子发射断层摄影全景图像。