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薄膜电容器及制造方法、和薄膜电容器嵌入式印刷电路板

摘要

本发明提供了在泄漏电流特性方面有所改进的薄膜电容器和电容器嵌入式印刷电路板。介电层由不需高温热处理就具有预定介电常数的BiZnNb-基非晶质金属氧化物制成,并且调整BiZnNb-基非晶质金属氧化物的金属相铋含量以获得期望的介电常数。同样,可形成具有不同金属相铋含量的另一介电层。所述薄膜电容器包括:第一电极;包括形成于所述第一电极上的第一介电膜的介电层,所述介电层包括BiZnNb-基非晶质金属氧化物;以及形成于所述介电层上的第二电极,其中所述BiZnNb-基非晶质金属氧化物包含金属相铋。

著录项

  • 公开/公告号CN101276690B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电机株式会社;

    申请/专利号CN200810088819.2

  • 申请日2008-03-28

  • 分类号

  • 代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人章社杲

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-19

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01G 4/33 授权公告日:20120111 终止日期:20180328 申请日:20080328

    专利权的终止

  • 2012-01-11

    授权

    授权

  • 2012-01-11

    授权

    授权

  • 2008-11-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-11-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-01

    公开

    公开

  • 2008-10-01

    公开

    公开

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