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通孔填充方法、通孔填充结构及通孔制作方法

摘要

本发明公开了一种通孔填充方法,包括,提供表面具有通孔的衬底,在所述衬底表面形成干膜,对所述干膜曝光、显影形成干膜开口,在所述干膜开口处对所述通孔进行填充。本发明还公开了一种通孔填充结构以及通孔制作方法。本发明通孔填充方法、通孔填充结构及通孔制作方法由于解决了现有技术光刻胶填入高深宽比的通孔困难以及曝光能量消耗较大的问题,从而通孔填充的效率得到了提高。

著录项

  • 公开/公告号CN101359618B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200710044634.7

  • 发明设计人 靳永刚;毛剑宏;王孝远;

    申请日2007-08-05

  • 分类号

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人逯长明

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-12-07

    授权

    授权

  • 2009-04-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-02-04

    公开

    公开

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