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支持机构及使用支持机构的掩模载台

摘要

一种支持机构,通过多个支持体支持掩模等平板时,可以补偿自重变形,并在保持平面的状态下对平板进行支持。在载台基座(11)上设置合计4个以上的高度不变的固定式支持体(1)、及高度可变的变位式支持体(2)。固定式支持体(1)具有通过旋转轴承安装在台座上的真空吸附部。变位式支持体(2)具有:使轴上下运动的气缸;通过旋转轴承安装在轴顶端的真空吸附部;限制轴的动作并固定高度的单元。由固定式支持体(1)的真空吸附部从背面保持掩模(20),并在3点支持掩模(20),并且对变位式支持体(2)的气缸只施加抵消掩模(20)自重变形的推力,并将掩模(20)顶起固定在所述位置,并由真空吸附部从背面保持掩模(20)。

著录项

  • 公开/公告号CN1991593B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 优志旺电机株式会社;

    申请/专利号CN200610172712.7

  • 发明设计人 田中米太;

    申请日2006-12-28

  • 分类号

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人胡建新

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-12-07

    授权

    授权

  • 2008-12-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-07-04

    公开

    公开

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