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一源多体氡室氡浓度的动态控制方法

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摘要

本发明涉及一种放射性气体浓度的控制方法，具体是一种一源多体氡室内氡浓度的控制方法，其特点是：在设定了氡室氡活度值、允许的误差并测量出氡室内的本底活度值后，以变量

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-01-08

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G05D 11/02 授权公告日:20111116 终止日期:20121117 申请日:20101117

专利权的终止
2011-11-16

授权

授权
2011-03-30

实质审查的生效 IPC(主分类):G05D 11/02 申请日:20101117

实质审查的生效
2011-02-16

公开

公开

1. 一源多体氡室氡浓度的动态控制方法 [P] . 中国专利： CN101976085B . 2011.11.16
2. 流气式氡室氡浓度的动态控制方法 [P] . 中国专利： CN101320274A . 2008-12-10
3. Pressure gauge testing device for dynamic pressure measurement in gas turbine, has sensor chamber arranged at side of disk, and pressure sensor mounted at chamber, where air from compressed air source is passed into sensor through holes [P] . 德国专利： DE102009032842A1 . 2011-01-20

机译：用于燃气轮机中动态压力测量的压力表测试装置，其传感器室布置在阀盘侧面，压力传感器安装在室中，来自压缩空气源的空气通过孔进入传感器
4. Dynamic coating of substrates with doped layers of silicon and/or germanium in vacuum coating chamber, comprises transferring the substrate into the chamber by transport system and over evaporation source with the coating material [P] . 德国专利： DE102007043943A1 . 2009-04-02

机译：在真空镀膜腔室中用硅和/或锗的掺杂层动态镀膜衬底，包括通过传输系统将衬底转移到腔室中，并在蒸镀源上通过镀膜材料进行传输
5. Dynamic (the substrate treatment chamber which possesses) the plasma source null multiple walls in line [P] . 日本专利： JP5535089B2 . 2014-07-02

机译：动态（拥有衬底的处理室）等离子源使多个壁排成一条线