首页> 中国专利> 铜电解液和使用该铜电解液得到的两层挠性基板

铜电解液和使用该铜电解液得到的两层挠性基板

摘要

本发明的课题在于提供一种耐折性、蚀刻特性、与抗蚀剂的粘合性优异、没有表面缺陷的两层挠性基板。提供了一种铜电解液,其特征在于,作为添加剂含有氯离子、硫类有机化合物、聚乙二醇,优选含有5~200ppm的氯离子、2~1000ppm的硫类有机化合物、5~1500ppm的聚乙二醇。还提供了一种两层挠性基板,是使用了该铜电解液设置了铜层的两层挠性基板,其特征在于,MIT特性在100次以上,铜层的表面粗糙度Rz为1.4~3.0μm。

著录项

  • 公开/公告号CN101636527B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日矿金属株式会社;

    申请/专利号CN200880008056.4

  • 发明设计人 花房干夫;

    申请日2008-03-05

  • 分类号C25D3/38(20060101);C25D7/00(20060101);H05K1/03(20060101);H05K1/09(20060101);H01L21/60(20060101);

  • 代理机构11247 北京市中咨律师事务所;

  • 代理人段承恩;田欣

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-04-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25D 3/38 授权公告日:20111109 终止日期:20150305 申请日:20080305

    专利权的终止

  • 2014-06-04

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C25D 3/38 变更前: 变更后: 申请日:20080305

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2014-06-04

    专利权的转移 IPC(主分类):C25D 3/38 变更前: 变更后: 登记生效日:20140509 申请日:20080305

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-11-09

    授权

    授权

  • 2010-03-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2010-01-27

    公开

    公开

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