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光电二极管以及具有该光电二极管的光电IC

摘要

本发明提供一种光电二极管和光电IC。光电二极管具有:支撑衬底;形成在该支撑衬底上的绝缘层;硅半导体层,形成在绝缘层上,具有元件形成区域和元件隔离区域;形成于该元件隔离区域的元件隔离层;P型高浓度扩散层,是在元件形成区域,高浓度扩散P型杂质而形成的;N型高浓度扩散层,是在元件形成区域,与P型高浓度扩散层具有间隔地高浓度扩散N型杂质而形成的;低浓度扩散层,是在元件形成区域,低浓度扩散与P型高浓度扩散层和N型高浓度扩散层的任意一方相同型的杂质而形成的;以及硅化物层,是在P型高浓度扩散层和N型高浓度扩散层的上部,分别与低浓度扩散层和P型高浓度扩散层的边界、以及低浓度扩散层和N型高浓度扩散层的边界具有间隔地形成的。

著录项

  • 公开/公告号CN101183693B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 冲电气工业株式会社;

    申请/专利号CN200710163363.7

  • 发明设计人 三浦规之;

    申请日2007-10-19

  • 分类号H01L31/103(20060101);H01L27/144(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人雒运朴;李伟

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-12-04

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 31/103 变更前: 变更后: 登记生效日:20131113 申请日:20071019

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-04-06

    授权

    授权

  • 2009-12-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-05-21

    公开

    公开

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