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等离子复合处理低温形成铬碳氮表面合金层工艺

摘要

本发明公开了等离子复合处理低温形成铬碳氮表面合金层工艺。其特征是在低于700℃的温度条件下,首先进行离子氮碳共渗或离子氮化工艺,然后进行等离子渗铬工艺分步复合或同时进行氮、碳、铬共渗,在被渗工件表面得到碳氮铬合金层。本发明的优点在于:将渗铬温度从高于铁素体向奥氏体转变的相变点降到其温度之下,节约能源、资源、简化工艺、方便操作;形成更合理,成分可控的含有铬合金元素与非金属元素碳、氮的表面强化层;复合处理工艺过程全部采用当代先进的等离子体辉光放电技术,设备紧凑,工艺适用,操作方便,有利于技木的推广和应用。

著录项

  • 公开/公告号CN101195913B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-12-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 桂林电子科技大学;

    申请/专利号CN200710048387.8

  • 申请日2007-01-25

  • 分类号

  • 代理机构桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司;

  • 代理人罗玉荣

  • 地址 541004 广西壮族自治区桂林市金鸡路1号桂林电子科技大学

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-03-28

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 28/00 授权公告日:20101208 终止日期:20110125 申请日:20070125

    专利权的终止

  • 2010-12-08

    授权

    授权

  • 2008-08-06

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-06-11

    公开

    公开

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