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阿达玛变换干涉光谱成像方法及设备

摘要

一种阿达玛变换干涉光谱成像方法,该方法包括以下步骤(1)成像于阿达玛模板表面上;(2)限制参与阿达玛变换编码的视场范围和过滤杂散光;(3)在垂直于光轴的方向上剪切成两个虚阿达玛模板,与阿达玛模板平行并且宽度方向一致;(4)产生干涉,与剪切方向垂直,(5)将干涉图信号进行送入计算机处理系统中;(6)阿达玛模板变换n次后,完成编码;(7)进行傅里叶变换,得到n幅目标经阿达玛模板编码后的光谱图像,解码后最终得到目标的两维空间信息和一维光谱信息,完成成像。本发明不受阿达玛模板尺寸限制,形成系统结构简单。

著录项

  • 公开/公告号CN101526400B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-11-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200810210069.1

  • 发明设计人 周锦松;相里斌;

    申请日2008-08-21

  • 分类号G01J3/45(20060101);

  • 代理机构61211 西安智邦专利商标代理有限公司;

  • 代理人康凯

  • 地址 710119 陕西省西安市高新区新型工业园区信息大道17号

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-10-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01J 3/45 授权公告日:20101103 终止日期:20130821 申请日:20080821

    专利权的终止

  • 2010-11-03

    授权

    授权

  • 2009-11-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-09

    公开

    公开

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