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用于制备毒扁豆碱的中间体的对映选择性合成方法

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摘要

本发明涉及制备光学纯的烷基化羟吲哚的方法，该光学活性的烷基化羟吲哚可用于制备毒扁豆碱和具有药理活性的毒扁豆碱样化合物的对映体。

著录项

  • 公开/公告号CN1047167C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日1999-12-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 赫彻斯特马里恩鲁斯公司;

    申请/专利号CN94105586.8

  • 发明设计人 T·B·K·李;G·S·K·王;

    申请日1994-05-27

  • 分类号C07D209/34;

  • 代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人李瑛

  • 地址 美国密苏里

  • 入库时间 2022-08-23 08:55:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2001-08-01

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2001-08-01

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2001-08-01

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 1999-12-08

    授权

    授权

  • 1999-12-08

    授权

    授权

  • 1999-12-08

    授权

    授权

  • 1997-11-19

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19940527

    著录项目变更

  • 1997-11-19

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19940527

    著录项目变更

  • 1997-11-19

    著录项目变更

    著录项目变更

  • 1997-11-19

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19940527

    著录项目变更

  • 1996-09-04

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1996-09-04

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1996-09-04

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1995-03-15

    公开

    公开

  • 1995-03-15

    公开

    公开

  • 1995-03-15

    公开

    公开

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