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1550纳米波段的亚波长金属偏振分束光栅

摘要

一种用于1550纳米波段的亚波长金属偏振分束光栅,其特征在于该光栅的周期小于200纳米、槽深为230纳米-410纳米,光栅的占宽比为0.3。该偏振分束光栅只存在0级衍射,消光比大于20dB,TE偏振光的反射衍射率和TM偏振光的透射衍射率均高于96%。特别是光栅周期为150纳米、槽深为323纳米时,光栅透射衍射消光比与反射衍射消光比分别达到67dB和23dB,TE偏振光的反射衍射率和TM偏振光的透射衍射率分别达到96.47%和97.04%。本发明的亚波长金属偏振分束光栅由纳米压印、反应离子辅助刻蚀及物理溅射工艺加工而成,可大批量、低成本生产,制作的光栅偏振分束特性好,性能稳定可靠。

著录项

  • 公开/公告号CN101515045B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-06-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 重庆文理学院;

    申请/专利号CN200910103542.0

  • 发明设计人 赵华君;袁代蓉;

    申请日2009-04-02

  • 分类号G02B5/18(20060101);G02B27/28(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 402160 重庆市永川区经济技术开发区学府大道

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-13

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 5/18 授权公告日:20100623 终止日期:20110402 申请日:20090402

    专利权的终止

  • 2010-06-23

    授权

    授权

  • 2009-10-21

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-08-26

    公开

    公开

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