公开/公告号CN1057803C
专利类型发明授权
公开/公告日2000-10-25
原文格式PDF
申请/专利权人 阿托泰克股份有限公司;
申请/专利号CN87104909.0
申请日1987-07-18
分类号C25D17/28;C25D7/00;C25D21/10;
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人赵蓉民
地址 联邦德国柏林
入库时间 2022-08-23 08:55:16
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2008-04-23
专利权的终止(专利权有效期届满)
专利权的终止(专利权有效期届满)
2008-04-23
专利权的终止(专利权有效期届满)
专利权的终止(专利权有效期届满)
2002-03-20
其他有关事项
其他有关事项
2002-03-20
其他有关事项
其他有关事项
2000-10-25
授权
授权
2000-10-25
授权
授权
1989-10-04
实质审查请求
实质审查请求
1988-06-29
公开
公开
查看全部
机译: 将MIM电容器与金属栅极材料的下板形成集成的方法,该金属栅极材料的下板形成在具有高K电介质材料的掺杂阱的表面或表面上的STI区域或硅化物区域上
机译: 测量电镀材料的电镀厚度的方法,电镀材料的腐蚀量的测量方法,电镀材料的腐蚀传感器
机译: 基板形状测量装置,基板处理装置,基板形状测量单元和处理基板的方法