首页> 中国专利> 用于光敏树脂组合物的基底附着力促进剂以及包含该促进剂的光敏树脂组合物

用于光敏树脂组合物的基底附着力促进剂以及包含该促进剂的光敏树脂组合物

摘要

本发明提供了一种用于光敏树脂组合物的附着力促进剂,其由通过下面的通式(1)表示的N-苯基-2H-苯并三唑化合物组成。该促进剂被加入到例如含有碱溶性树脂和光敏剂的光敏树脂组合物中:其中,R1-R4各自独立地表示氢原子,卤原子或C1-5烷基;在R5和R9中至少之一是羟基的条件下,R5-R9各自独立地表示氢原子,羟基,C1-10烷基,芳基,C7-12芳烷基,-R10COOR11,或者-R10CO-(OCH2CH2)n-OH;R10代表C2-5亚烷基;R11代表C1-8烷基;并且n是2-20的整数。

著录项

  • 公开/公告号CN100552546C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-10-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AZ电子材料(日本)株式会社;

    申请/专利号CN200480009527.5

  • 发明设计人 武田贵志;小林聪;申东明;

    申请日2004-04-05

  • 分类号G03F7/085(20060101);G03F7/022(20060101);

  • 代理机构11216 北京三幸商标专利事务所;

  • 代理人刘激扬

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-08-05

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/085 变更前: 变更后: 登记生效日:20150714 申请日:20040405

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-07-04

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/085 变更前: 变更后: 申请日:20040405

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2009-10-21

    授权

    授权

  • 2006-07-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-05-10

    公开

    公开

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