公开/公告号CN100505044C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-06-24
原文格式PDF
申请/专利权人 日立环球储存科技荷兰有限公司;
申请/专利号CN200610005722.1
申请日2006-01-06
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人李晓舒
地址 荷兰阿姆斯特丹
入库时间 2022-08-23 09:02:29
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-03-23
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 5/235 授权公告日:20090624 终止日期:20100208 申请日:20060106
专利权的终止
2009-06-24
授权
授权
2006-10-18
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-08-23
公开
公开
机译: 用于在垂直磁头制造期间控制尾随屏蔽间隙的形成的方法以及由此形成的磁头
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机译: 具有第一磁屏蔽件,叠层,侧屏蔽件,反铁磁层和第二磁屏蔽件的磁头,磁头组件,磁记录和再现设备以及磁头的制造方法