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一种产生单光子的谐振腔及单光子源系统

摘要

本发明公开了一种产生单光子的谐振腔,其包括:谐振腔体和衬底,所述谐振腔体包括上反射层、下反射层和设置在所述上反射层、下反射层中间的光栅层形成的三明治结构,所述上反射层、下反射层采用金属薄膜或类金属薄膜,所述光栅层设有光栅微结构以形成光学微腔,所述衬底设置于所述谐振腔体的底部,该衬底为截角倒锥形衬底,在所述衬底与下反射层接触的表面,设有用以提高反射效率的二维超结构;以及包括该谐振腔和激发光产生系统的一种单光子源系统,所述激发光产生系统将其产生的激发光子发射至所述谐振腔内,所述激发光子在所述光栅微结构中经多次反射后从所述谐振腔射出。

著录项

  • 公开/公告号CN113067238B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国计量大学;

    申请/专利号CN202110295782.6

  • 申请日2021-03-19

  • 分类号H01S3/06(20060101);H01S3/08(20060101);

  • 代理机构33329 杭州钤韬知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人唐灵;赵杰香

  • 地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号

  • 入库时间 2022-08-23 13:08:37

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