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一种芘衍生物材料及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种芘衍生物材料及其制备方法与应用。该材料为以芘结构为核,并在1,6位(式I)或1,3,6,8位(式II)引入较大位阻芳香基团,该类分子具有对称结构和抑制分子聚集的特点。其制备方法为将大位阻基团通过Suzuki偶联反应与芘核连接,制备过程简单、产率高,产物易于提纯。大位阻基团的引入可以有效抑制刚性大平面刚性芘分子间聚集,提高材料的发光效率和热稳定性,使其在有机电致发光器件和有机激光器件等方面具有潜在的应用价值。

著录项

  • 公开/公告号CN110183315B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京邮电大学;

    申请/专利号CN201910494722.X

  • 发明设计人 赖文勇;成思卿;李祥春;黄维;

    申请日2019-06-10

  • 分类号C07C43/205(20060101);C07C41/30(20060101);C09K11/06(20060101);H01L51/00(20060101);H01L51/54(20060101);

  • 代理机构32249 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人陈国强

  • 地址 210000 江苏省南京市鼓楼区新模范马路66号

  • 入库时间 2022-08-23 13:04:08

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