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一种高利用率宽面矩形阴极靶及其提高利用率的方法

摘要

本发明提供了一种宽面高利用率矩形阴极靶,包括软铁底板及设置在软铁底板上的中心磁钢,包围中心磁钢的同向多道环形磁钢。环形磁钢的磁场面与软铁底板呈10‑15°的倾角;最外环形跑道磁钢与中心磁钢等高,且由外向内环形跑道磁钢按照每道3㎜的阶梯降低;环形跑道磁钢的宽度由外向内逐渐变小。本发明设计的宽面矩形阴极靶的磁场布置可使平面溅射靶材的利用率到50%以上。将上述宽面矩形阴极靶在初次溅射使用后,将未溅射区域和已溅射区域靶材切割分离,未溅射区域按上述宽面矩形阴极靶的结构拼接后可以再次用作磁控溅射靶材,使靶材的利用率提高到80%以上,不仅提高了镀膜效率,而且极大的节约了资源。

著录项

  • 公开/公告号CN111876739B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院兰州化学物理研究所;

    申请/专利号CN202010773225.6

  • 发明设计人 张斌;高凯雄;贾倩;张俊彦;强力;

    申请日2020-08-04

  • 分类号C23C14/35(20060101);C23C14/32(20060101);

  • 代理机构62201 兰州智和专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张英荷

  • 地址 730000 甘肃省兰州市城关区天水中路18号

  • 入库时间 2022-08-23 12:53:20

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