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溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体

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摘要

本发明的溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。

著录项

  • 公开/公告号CN109819662B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JX金属株式会社;

    申请/专利号CN201880003684.7

  • 发明设计人 清水正义;岩渊靖幸;增田爱美;

    申请日2018-08-16

  • 分类号C23C14/34(20060101);C23C14/14(20060101);G11B5/64(20060101);G11B5/851(20060101);H01F41/18(20060101);

  • 代理机构11314 北京戈程知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 12:51:08

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