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一种聚焦型光场相机系统的参数设计方法

摘要

本发明涉及一种聚焦型光场相机系统的参数设计方法,属于计算成像领域。利用聚焦型光场相机结构灵活的特点,从对光场图像的分辨率分析中,得到了光场相机内部几何参数对系统成像效果的影响情况,从而根据实际需要选取合适的系统结构参数,最大化利用已有探测器和光学结构的性能,完成系统的设计。通过几何光学原理,分析主透镜以及微透镜阵列成像关系,通过微透镜成像物像距之比决定空间、角度分辨率的分配,再结合对深度分辨率以及成像深度范围的分析,综合考虑得到聚焦型光场相机的系统设计参数。本发明提出的设计方法,可以为聚焦型光场相机在不同的应用场景提供相应的设计方案,为其在光场深度估计精度的计算方面提供理论依据。

著录项

  • 公开/公告号CN112235508B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN202011098002.0

  • 发明设计人 刘旭;朱斐越;

    申请日2020-10-14

  • 分类号H04N5/232(20060101);

  • 代理机构33224 杭州天勤知识产权代理有限公司;

  • 代理人颜果

  • 地址 310013 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

  • 入库时间 2022-08-23 12:41:08

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