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二维共价聚合物碳骨架聚合物薄膜及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种二维共价碳骨架聚合物薄膜及其制备方法与应用。本发明主要是将二炔基有机化合物作为单体,在金属基底上加热并光照,得到全碳聚合物薄膜。将金属基底刻蚀,聚合物薄膜清洗,转移到器件测试的基底上,测得材料的电子学性质。本发明制备的全碳聚合物薄膜厚度在30~500nm之间,迁移率相较其他炔类二维聚合物提高两到三个数量级。且制备过程不需要真空度,反应温度在200~300℃之间。

著录项

  • 公开/公告号CN111763277B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院化学研究所;

    申请/专利号CN201910259973.X

  • 发明设计人 胡文平;张紫超;董焕丽;甄永刚;

    申请日2019-04-02

  • 分类号C08F138/00(20060101);C08J5/18(20060101);H01L51/05(20060101);H01L51/30(20060101);C08L49/00(20060101);

  • 代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人关畅

  • 地址 100080 北京市海淀区中关村北一街2号

  • 入库时间 2022-08-23 12:16:38

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