基于协方差矩阵自适应进化策略算法的光源掩模优化方法

摘要

本发明公开了一种基于协方差矩阵自适应进化策略算法的光源掩模优化方法，采用像素表征光源及掩模图形，以光刻胶图形与目标图形之间的图形误差作为评价函数，预先设置一定数量的位置待定的光源点，采用CMA‑ES算法优化这些预设光源点的位置分布与掩模图形。本发明利用了最优光源的分布稀疏性，通过预先设置光源点数量，减少了光源优化阶段的优化变量维数。同时，在最优解搜索过程中自适应地调整搜索空间及搜索步长，提高了优化效率及寻优能力，有效提高了成像质量。