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低介电常数的聚酰亚胺的制造方法及聚酰亚胺膜暨其应用

摘要

本发明的方法包括提供含氟高分子分散液(A)和溶于第一溶剂(C)中的芳香族二胺(B);上述含氟高分子分散液(A)包含含氟高分子(a‑1)、第二溶剂(a‑2)和分散剂(a‑3);混合含氟高分子分散液(A)与芳香族二胺(B),以形成第一混合物中;加入芳香族四羧酸二酐(D)于第一混合物中,以形成聚酰胺酸溶液;对聚酰胺酸溶液进行去溶剂步骤和加热步骤,以制得聚酰亚胺。所制得的聚酰亚胺膜具有低介电常数以及低损耗因子。

著录项

  • 公开/公告号CN107286650B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 新扬科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201610226826.9

  • 申请日2016-04-13

  • 分类号C08L79/08(20060101);C08L27/18(20060101);C08G73/10(20060101);C08J5/18(20060101);B32B15/08(20060101);B32B15/20(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 中国台湾高雄市路竹区路科二路8号

  • 入库时间 2022-08-23 11:39:18

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