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铁氰化镍/还原氧化石墨烯杂化材料的制备方法及其在高选择性电化学去除铯离子中的应用

摘要

本发明公开了一种铁氰化镍/还原氧化石墨烯杂化材料的制备方法及其在高选择性电化学去除铯离子中的应用,该方法通过简单的共沉淀方法制备还原氧化石墨烯负载的铁氰化镍纳米粒子,其中铁氰化镍纳米粒子均匀分散在还原氧化石墨烯上,制得的铁氰化镍/还原氧化石墨烯杂化材料在钾离子存在的条件下显示出对铯离子较高的选择性,因此能够用作高选择性电化学去除铯离子的电化学转换离子交换剂。

著录项

  • 公开/公告号CN108562602B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江师范大学;

    申请/专利号CN201810291251.8

  • 申请日2018-04-03

  • 分类号G01N23/2055(20180101);B01J39/09(20170101);

  • 代理机构41139 新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人路宽

  • 地址 321004 浙江省金华市迎宾大道688号浙江师范大学生化学院

  • 入库时间 2022-08-23 11:39:15

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