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一种有效调制太阳光透射率的电致变色薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种有效调制太阳光透射率的电致变色薄膜,该电致变色薄膜为含有CsxWO3纳米点阵嵌入型的非晶氧化钨复合薄膜,其中,x为0.06~0.2,格点直径为80~300nm,相邻格点间距为200~600nm,格点高度为30~80nm。该薄膜解决商用电致变色薄膜对太阳光可调控波段范围窄以及无法实现对近红外辐射热独立调控的问题。该制备方法首先采用激光干涉结合感光溶胶凝胶法制备CsxWO3纳米点阵,然后采用溶胶凝胶法在点阵间隙填充非晶氧化钨基质,以形成复合薄膜。该制备方法具有工艺可控且能大面积制膜的特点,十分适合产业化大批量生产。

著录项

  • 公开/公告号CN108483939B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安理工大学;

    申请/专利号CN201810344734.X

  • 申请日2018-04-17

  • 分类号C03C17/34(20060101);

  • 代理机构61214 西安弘理专利事务所;

  • 代理人胡燕恒

  • 地址 710048 陕西省西安市金花南路5号

  • 入库时间 2022-08-23 11:38:12

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