掩模版和晶圆缺陷检测正交性补偿方法

摘要

本发明涉及一种掩模版和晶圆缺陷检测正交性补偿方法，本正交补偿方法包括：通过图像采集装置获得待测物相对于定位平台的水平偏差角度和垂直偏差角度，并且在扫描待测物进行过程中，通过所述水平偏差角度和垂直偏差角度，对定位平台进行实时位置补偿；本方法可以有效实现光刻过程中层与层之间精确的位置定位，及在掩膜版和晶圆检测过程中获取到准确位置的图形。最终的精度能够达到定位平台的绝对运动精度。