对腔室部件进行涂层的方法和用于处理腔室的腔室部件

摘要

本发明涉及一种方法以及腔室部件。一种用于半导体工艺腔室部件的表面的多组分涂层组成物包括使用原子层沉积工艺涂布到该半导体工艺腔室部件的该表面上的氧化钇或氟化钇的至少一个第一膜层以及使用原子层沉积工艺涂布到该半导体工艺腔室部件的该表面上的额外氧化物或额外氟化物的至少一个第二膜层，其中该多组分涂层组成物选自由YO_xF_y、YAl_xO_y、YZr_xO_y和YZr_xAl_yO_z组成的群组。