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用于红外探测器非均匀性校正的超构透镜阵列及方法

摘要

本发明公开一种用于红外探测器非均匀性校正的超构透镜阵列及方法。所述超构透镜阵列蚀刻在衬底的下表层,其中红外探测器阵列中的每个探测器与超构透镜阵列中的每个超构透镜尺寸相同。所述方法包括步骤:(1)对探测器阵列进行辐射测量;(2)扫描数模图像;(3)获取每个采样点对应的超构透镜焦距;(4)设计超构透镜;(5)生成超构透镜阵列。本发明能够减少红外成像系统的体积,具备轻型化、一体化的优点,能够在红外成像过程中,及时有效地进行非均匀性校正,提高红外成像质量,具有适用范围广、实时性强的特点。

著录项

  • 公开/公告号CN110455418B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201910766732.4

  • 申请日2019-08-20

  • 分类号G01J5/08(20060101);

  • 代理机构61205 陕西电子工业专利中心;

  • 代理人田文英;王品华

  • 地址 710071 陕西省西安市太白南路2号

  • 入库时间 2022-08-23 11:18:18

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