首页> 中国专利> 一种超疏水纳米技术修饰的建筑墙面瓦及其制备方法

一种超疏水纳米技术修饰的建筑墙面瓦及其制备方法

摘要

本发明涉及陶瓷材料技术领域,尤其是涉及一种超疏水纳米技术修饰的建筑墙面瓦及其制备方法。该墙面瓦包括碧瓦基板和涂覆在碧瓦基板表面的陶瓷釉,所述陶瓷釉由以下重量份数配比的原料制成:玻璃质熔块70~80份、金属铜微米颗粒7~15份、Fe2O3微米颗粒2~8份、高岭土5~10份,采用喷涂的方法将组分配制成的悬浮液涂覆在碧瓦基板表面。本发明墙面瓦具有较强的超疏水性能、抗菌效果和耐摩擦性能。

著录项

  • 公开/公告号CN108164142B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江海洋大学;

    申请/专利号CN201711321786.7

  • 发明设计人 张海龙;

    申请日2017-12-12

  • 分类号C03C8/18(20060101);C04B41/86(20060101);C04B33/34(20060101);

  • 代理机构33109 杭州杭诚专利事务所有限公司;

  • 代理人尉伟敏

  • 地址 316022 浙江省舟山市定海区临城街道海大南路1号

  • 入库时间 2022-08-23 11:18:01

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号