光学膜的膜厚监控方法

摘要

本揭示提供了光学膜的膜厚监控方法。所述光学膜的膜厚监控方法包括向涂布机台输入工艺参数K，其中K＝V/P，K为工艺参数，V为光学膜的涂布速度，P为喷嘴的吐出压力，当K值稳定时，所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚均匀，以及当所述K值不稳定时，所述涂布机台判定所述光学膜的膜厚异常。本揭示能够判断所述光学膜的膜厚是否异常及缩短异常发现时间。