首页> 中国专利> 用于密封数据存储系统的双阻挡层真空密封

用于密封数据存储系统的双阻挡层真空密封

摘要

本申请公开了一种数据存储系统组装件,其包括:气密外壳;双阻挡层密封系统,其包括彼此间隔开的第一密封构件和第二密封构件;以及真空源,其在密封构件之间的空间中操作以便在该空间中产生比在该外壳中更低的压力。轻于空气气体可以被封闭在外壳中,并且多个非气密数据存储装置可以被容纳在外壳内。空气、湿气和其他污染物可以被真空系统拦截,而不是泄漏到存储系统外壳的密封内部环境中并污染密封内部环境。

著录项

  • 公开/公告号CN108206032B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西部数据技术公司;

    申请/专利号CN201710799983.3

  • 申请日2017-09-07

  • 分类号

  • 代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐东升

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 11:05:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-17

    授权

    授权

  • 2018-07-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G11B33/14 申请日:20170907

    实质审查的生效

  • 2018-06-26

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号