公开/公告号CN108922656B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-07
原文格式PDF
申请/专利权人 北京玉宇澄清科技有限公司;
申请/专利号CN201810631939.6
发明设计人 王旭华;
申请日2018-06-19
分类号
代理机构广州嘉权专利商标事务所有限公司;
代理人唐致明
地址 100032 北京市西城区展览馆路35号新汇国信商务酒店二层286室
入库时间 2022-08-23 11:04:34
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-07
授权
授权
2019-02-12
专利申请权的转移 IPC(主分类):H01B5/14 登记生效日:20190117 变更前: 变更后: 申请日:20180619
专利申请权、专利权的转移
2018-12-25
实质审查的生效 IPC(主分类):H01B5/14 申请日:20180619
实质审查的生效
2018-11-30
公开
公开
机译: 一种用于制造纳米级图案化聚合物薄膜的方法,以便在所需位置上快速且无害地形成聚合物图案
机译: 一种使用光致抗蚀剂掩模通过剥离将导电层图案化到电极的方法,其中导电层未完全涂覆
机译: 包含其应用于在掺杂有至少一种导电材料的至少一种导电特性的金属的金属层中的半导体材料本体的一部分的半导体器件的制造方法和金属层,以调节半导电体的一部分中的不同活化剂原子,调节金属层并将其从外部连接到金属层。