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用于生产高折射率光学涂层的蒸镀用材料

摘要

本发明涉及一种用于以真空蒸镀法在基体上制备高折射率光学涂层的蒸镀用材料。该材料是一种化学式为La

著录项

  • 公开/公告号CN1033471C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日1996-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 默克专利股份有限公司;

    申请/专利号CN93103073.0

  • 发明设计人 M·弗里茨;D·阿布雷克特;

    申请日1993-03-18

  • 分类号G02B1/10;C03C17/23;C01G23/00;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人全菁

  • 地址 联邦德国达姆施塔特

  • 入库时间 2022-08-23 08:54:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-05-15

    专利权有效期届满 IPC(主分类):G02B 1/10 授权公告日:19961204 期满终止日期:20130318 申请日:19930318

    专利权的终止

  • 1996-12-04

    授权

    授权

  • 1995-06-21

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1993-09-22

    公开

    公开

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