公开/公告号CN107392382B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-03-24
原文格式PDF
申请/专利权人 中国电子科技集团公司第五十四研究所;
申请/专利号CN201710627365.0
申请日2017-07-28
分类号G06Q10/04(20120101);G06Q10/06(20120101);G06N3/12(20060101);
代理机构13124 河北东尚律师事务所;
代理人王文庆
地址 050081 河北省石家庄市中山西路589号第五十四所指控部
入库时间 2022-08-23 10:53:03
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-24
授权
授权
2017-12-19
实质审查的生效 IPC(主分类):G06Q10/04 申请日:20170728
实质审查的生效
2017-12-19
实质审查的生效 IPC(主分类):G06Q 10/04 申请日:20170728
实质审查的生效
2017-11-24
公开
公开
2017-11-24
公开
公开
2017-11-24
公开
公开
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机译: 一种用于技术设备的纳米级校准刻度的制备方法,可用于结构的高分辨率到超高分辨率成像
机译: 一种用于技术设备的纳米级校准刻度的制备方法,可用于结构的高分辨率到超高分辨率成像
机译: 一种用于技术设备的纳米级标尺的生产和校准的方法,用于结构的高分辨率或超高分辨率成像